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  • OTF-1200X-III-C沈陽科晶1200℃小型三溫區(qū)開啟式管式爐
    OTF-1200X-III-C沈陽科晶1200℃小型三溫區(qū)開啟式管式爐

    沈陽科晶1200℃小型三溫區(qū)開啟式管式爐是一款加熱區(qū)為450mm (150+150+150mm)的開啟式三溫區(qū)管式爐,其石英爐管的直徑為25,, 50,60,80或100mm。三個溫 區(qū)都由獨立的溫控系統(tǒng)控制,可設(shè)置30段升降溫程序,控溫精度為+/- 1 ° C,高溫度可達到1200°Co

    更新時間:2024-11-07型號:OTF-1200X-III-C瀏覽量:804
  • OTF-1200X-V沈陽科晶1200℃五溫區(qū)獨立控制管式爐
    OTF-1200X-V沈陽科晶1200℃五溫區(qū)獨立控制管式爐

    沈陽科晶1200℃五溫區(qū)獨立控制管式爐采用獨立的溫控裝置,可離開爐體進行溫控操作,通過調(diào)節(jié)各個溫區(qū)的 溫度,可以在加熱區(qū)內(nèi)形成四段溫度梯度,或形成較長的恒溫區(qū)域。本機具有控溫精度高,保溫效果好,溫度范圍大,溫度均勻性高,溫 區(qū)多,可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡單等特點。

    更新時間:2024-11-07型號:OTF-1200X-V瀏覽量:661
  • OTF-1200X-V沈陽科晶1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐
    OTF-1200X-V沈陽科晶1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐

    沈陽科晶1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐每個溫區(qū)分別由獨立的溫控系統(tǒng)控制,通過調(diào)節(jié)各個溫區(qū)的溫度,可以在加熱 區(qū)內(nèi)形成四段溫度梯度,或形成較長的恒溫區(qū)域。本機用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗或小批量生產(chǎn),主要針對電子陶 瓷的預(yù)燒、燒結(jié)、緩膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e(CVD)等工藝。

    更新時間:2024-11-07型號:OTF-1200X-V瀏覽量:730
  • OTF-1200X-Ⅲ沈陽科晶1200℃三溫區(qū)開啟式管式爐
    OTF-1200X-Ⅲ沈陽科晶1200℃三溫區(qū)開啟式管式爐

    沈陽科晶1200℃三溫區(qū)開啟式管式爐每個溫區(qū)分別由獨立的溫控系統(tǒng)控制,具有控溫精度高,保溫效果好,溫度范圍 大,溫度均勻性高,溫區(qū)多等特點。本機可通氣氛抽真空,操作簡單,安全可靠。

    更新時間:2023-08-02型號:OTF-1200X-Ⅲ瀏覽量:974
  • OTF-1200X-II沈陽科晶1200℃開啟式雙溫區(qū)管式爐
    OTF-1200X-II沈陽科晶1200℃開啟式雙溫區(qū)管式爐

    沈陽科晶1200℃開啟式雙溫區(qū)管式爐高溫度可達到1200P,并可通過調(diào)節(jié)兩個獨立的控溫程序,使?fàn)t管內(nèi)溫度場形成 —梯度。本機可用CVD方法來生長納米材料和制作各種蒲膜。

    更新時間:2023-08-02型號:OTF-1200X-II瀏覽量:836
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